| Количество: | |
|---|---|
TN-MSP325S-2DCRF
TN
Этот трехголовочный высоковакуумный магнетронный напылитель DC/RF предлагает передовые технологии и прецизионный контроль для эффективного и точного осаждения пленки.Благодаря высокому вакууму он обеспечивает чистый процесс нанесения покрытия без загрязнений.
Установка для нанесения покрытий оснащена тремя магнетронными распылительными головками, позволяющими одновременно наносить несколько слоев.Это позволяет производить сложные многослойные пленки с точным контролем толщины и состава.
Благодаря высококачественной вакуумной системе это устройство для нанесения покрытий обеспечивает превосходную однородность и адгезию пленки.Распылительные головки обеспечивают стабильный и равномерный плазменный разряд, что приводит к высокой плотности пленки и низкой пористости.
Оборудование удобно в использовании и имеет пользовательский интерфейс, который обеспечивает простоту эксплуатации и управления.Он предлагает различные режимы осаждения, включая напыление постоянным током и радиочастотное напыление, что обеспечивает гибкость при подготовке пленки.
Благодаря прочной конструкции и надежной работе эта установка для нанесения покрытий подходит для научно-исследовательских лабораторий, а также промышленных производственных предприятий.Он обеспечивает экономичное решение для изготовления многослойных оптических пленок SiO2/Ta2O5 с превосходными оптическими свойствами.
Подводя итог, можно сказать, что трехголовочная установка для магнетронного напыления постоянного тока/РЧ в высоком вакууме представляет собой оборудование профессионального уровня, которое обеспечивает точное и эффективное осаждение многослойных оптических пленок SiO2/Ta2O5.Его расширенные функции и удобный интерфейс делают его идеальным выбором для различных применений тонких пленок.
Технические параметры магнетронного распылителя:
Образец этапа | Размер | Диаметр 140 мм |
Температура нагрева | Макс. 500 ℃ | |
Точность температуры | ±1℃ | |
Скорость вращения | 1-20 об/мин регулируемый | |
Магнетронная распылительная головка | Количество | 2'×3 (1',2' опционально) |
Режим охлаждения | Водяное охлаждение | |
Охладитель воды | Охладитель циркуляционной воды со скоростью потока 10 л/мин. | |
Вакуумная камера | Размер камеры | Диаметр 300 мм×300 мм |
Материал камеры | Нержавеющая сталь | |
Окно просмотра | Диаметр 100 мм | |
Режим открытия | Верхняя крышка открыта | |
Массовый расходомер | 2 канала;диапазон измерения 100SCCM;100SCCM (может быть настроен в соответствии с потребностями клиента) | |
Вакуумная система | Модель | ТН-ГЗК103-А |
Молекулярный насос | ТН-600 | |
Форвакуумный насос | Роторно-лопастной насос | |
Предельный вакуум | 1,0Э-5Па | |
Интерфейс накачки | CF160 | |
Выхлопной интерфейс | КФ40 | |
Измерение вакуума | Составной вакуумметр | |
Источник питания | переменный ток;220В 50/60 Гц | |
Скорость откачки | Молекулярный насос: 600 л/с пластинчато-роторный насос: 1,1 л/с Комплексная производительность откачки газа: вакуум до 1,0E-3Па за 20 минут. | |
Конфигурация питания | Количество | Источник питания постоянного тока x2 Радиочастотный источник питания x1 |
Максимальная выходная мощность | 500 Вт постоянного тока, РЧ 500 Вт | |
Другие параметры | Напряжение питания | 220 В переменного тока, 50 Гц |
Суммарная мощность | 4кВт | |
Общий размер | 600мм×650мм×1280мм | |
Общий вес | Около 300 кг | |
Этот трехголовочный высоковакуумный магнетронный напылитель DC/RF предлагает передовые технологии и прецизионный контроль для эффективного и точного осаждения пленки.Благодаря высокому вакууму он обеспечивает чистый процесс нанесения покрытия без загрязнений.
Установка для нанесения покрытий оснащена тремя магнетронными распылительными головками, позволяющими одновременно наносить несколько слоев.Это позволяет производить сложные многослойные пленки с точным контролем толщины и состава.
Благодаря высококачественной вакуумной системе это устройство для нанесения покрытий обеспечивает превосходную однородность и адгезию пленки.Распылительные головки обеспечивают стабильный и равномерный плазменный разряд, что приводит к высокой плотности пленки и низкой пористости.
Оборудование удобно в использовании и имеет пользовательский интерфейс, который обеспечивает простоту эксплуатации и управления.Он предлагает различные режимы осаждения, включая напыление постоянным током и радиочастотное напыление, что обеспечивает гибкость при подготовке пленки.
Благодаря прочной конструкции и надежной работе эта установка для нанесения покрытий подходит для научно-исследовательских лабораторий, а также промышленных производственных предприятий.Он обеспечивает экономичное решение для изготовления многослойных оптических пленок SiO2/Ta2O5 с превосходными оптическими свойствами.
Подводя итог, можно сказать, что трехголовочная установка для магнетронного напыления постоянного тока/РЧ в высоком вакууме представляет собой оборудование профессионального уровня, которое обеспечивает точное и эффективное осаждение многослойных оптических пленок SiO2/Ta2O5.Его расширенные функции и удобный интерфейс делают его идеальным выбором для различных применений тонких пленок.
Технические параметры магнетронного распылителя:
Образец этапа | Размер | Диаметр 140 мм |
Температура нагрева | Макс. 500 ℃ | |
Точность температуры | ±1℃ | |
Скорость вращения | 1-20 об/мин регулируемый | |
Магнетронная распылительная головка | Количество | 2'×3 (1',2' опционально) |
Режим охлаждения | Водяное охлаждение | |
Охладитель воды | Охладитель циркуляционной воды со скоростью потока 10 л/мин. | |
Вакуумная камера | Размер камеры | Диаметр 300 мм×300 мм |
Материал камеры | Нержавеющая сталь | |
Окно просмотра | Диаметр 100 мм | |
Режим открытия | Верхняя крышка открыта | |
Массовый расходомер | 2 канала;диапазон измерения 100SCCM;100SCCM (может быть настроен в соответствии с потребностями клиента) | |
Вакуумная система | Модель | ТН-ГЗК103-А |
Молекулярный насос | ТН-600 | |
Форвакуумный насос | Роторно-лопастной насос | |
Предельный вакуум | 1,0Э-5Па | |
Интерфейс накачки | CF160 | |
Выхлопной интерфейс | КФ40 | |
Измерение вакуума | Составной вакуумметр | |
Источник питания | переменный ток;220В 50/60 Гц | |
Скорость откачки | Молекулярный насос: 600 л/с пластинчато-роторный насос: 1,1 л/с Комплексная производительность откачки газа: вакуум до 1,0E-3Па за 20 минут. | |
Конфигурация питания | Количество | Источник питания постоянного тока x2 Радиочастотный источник питания x1 |
Максимальная выходная мощность | 500 Вт постоянного тока, РЧ 500 Вт | |
Другие параметры | Напряжение питания | 220 В переменного тока, 50 Гц |
Суммарная мощность | 4кВт | |
Общий размер | 600мм×650мм×1280мм | |
Общий вес | Около 300 кг | |
