| Количество: | |
|---|---|
TN
Настольная одноцелевая магнетронная установка для нанесения покрытий оснащена возвратно-поступательным столом для образцов, что позволяет наносить точное и равномерное покрытие.
Эта высококачественная настольная установка для магнетронного напыления с одной мишенью идеально подходит для исследователей и специалистов в области осаждения тонких пленок.Благодаря передовой технологии и надежной работе он обеспечивает точную и эффективную подготовку различных тонких пленок.
Устройство для нанесения покрытий специально разработано для нанесения однослойных или многослойных тонких сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов и других тонких пленок.Технология магнетронного распыления гарантирует превосходное качество и однородность пленки.
Эта установка для нанесения покрытия, оснащенная столом для образцов с возвратно-поступательным движением, обеспечивает точный контроль над процессом нанесения покрытия.Стол для образцов перемещается вперед и назад, обеспечивая равномерное распределение распыляемого материала на подложке.Эта функция необходима для достижения последовательных и воспроизводимых результатов.
Настольная установка для магнетронного распыления с одной мишенью удобна в использовании, имеет простой интерфейс и интуитивно понятное управление.Это позволяет легко регулировать параметры осаждения, такие как мощность распыления, время осаждения и скорость потока газа.Это делает его подходящим как для опытных исследователей, так и для новичков в этой области.
Компактный дизайн этого устройства для нанесения покрытий делает его идеальным для лабораторий с ограниченным пространством.Он легко помещается на стандартном лабораторном столе без ущерба для его производительности.Его прочная конструкция обеспечивает долговечность и долговременную надежность.
В заключение отметим, что настольная установка для магнетронного напыления с одной мишенью и возвратно-поступательным столом для образцов представляет собой инструмент профессионального уровня для изготовления высококачественных тонких пленок.Его расширенные функции, удобный интерфейс и компактный дизайн делают его ценным дополнением к любому исследовательскому или производственному объекту.
Технические параметры одноцелевого магнетронного распылителя:
Таблица образцов возвратно-поступательного движения | размер | 50*100 мм | |
возвратно-поступательное движение скорость | 0~50 мм/с | ||
Магнетронная мишенная пушка | Цель самолет | Круглая плоская мишень | |
Напыление вакуум | 10 Па~0,2 Па | ||
Цель диаметр | 2 дюйма | ||
Цель толщина | Рекомендуется 2 ~ 5 мм. | ||
Цель температура | ℃65℃ | ||
Вакуумная камера | Полость размер | О Φ180 мм × В 215 мм | |
Полость материал | Высокий чистота кварца | ||
Наблюдение окно | Всенаправленный прозрачность | ||
Открытие метод | Съемный верхняя крышка | ||
источник питания | ОКРУГ КОЛУМБИЯ источник питания | 150 Вт макс. | |
Количество | 1 | ||
Молекулярная насосная система | Форлайн насос | Роторный лопастной насос | ВРД-4 |
Накачка скорость | 1,1 л/с | ||
Окончательный вакуум | 5*10-1Па | ||
Молекулярный насос | Молекулярный скорость откачки | 600л/с | |
Рейтинг скорость | 24000 об/мин | ||
Окончательный вакуум | 5*10-5Па | ||
Вибрация ценить | ≦0,1 мкм | ||
Начинать Time | ≦4,5 мин. | ||
Время простоя | <7 минут | ||
охлаждение метод | Водяное охлаждение + воздушное охлаждение | ||
Кулер | Охлаждение температура воды | ≦37℃ | |
Охлаждение расход воды | 10л/мин | ||
Напряжение питания | 220 В переменного тока, 50 Гц | ||
Настольная одноцелевая магнетронная установка для нанесения покрытий оснащена возвратно-поступательным столом для образцов, что позволяет наносить точное и равномерное покрытие.
Эта высококачественная настольная установка для магнетронного напыления с одной мишенью идеально подходит для исследователей и специалистов в области осаждения тонких пленок.Благодаря передовой технологии и надежной работе он обеспечивает точную и эффективную подготовку различных тонких пленок.
Устройство для нанесения покрытий специально разработано для нанесения однослойных или многослойных тонких сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов и других тонких пленок.Технология магнетронного распыления гарантирует превосходное качество и однородность пленки.
Эта установка для нанесения покрытия, оснащенная столом для образцов с возвратно-поступательным движением, обеспечивает точный контроль над процессом нанесения покрытия.Стол для образцов перемещается вперед и назад, обеспечивая равномерное распределение распыляемого материала на подложке.Эта функция необходима для достижения последовательных и воспроизводимых результатов.
Настольная установка для магнетронного распыления с одной мишенью удобна в использовании, имеет простой интерфейс и интуитивно понятное управление.Это позволяет легко регулировать параметры осаждения, такие как мощность распыления, время осаждения и скорость потока газа.Это делает его подходящим как для опытных исследователей, так и для новичков в этой области.
Компактный дизайн этого устройства для нанесения покрытий делает его идеальным для лабораторий с ограниченным пространством.Он легко помещается на стандартном лабораторном столе без ущерба для его производительности.Его прочная конструкция обеспечивает долговечность и долговременную надежность.
В заключение отметим, что настольная установка для магнетронного напыления с одной мишенью и возвратно-поступательным столом для образцов представляет собой инструмент профессионального уровня для изготовления высококачественных тонких пленок.Его расширенные функции, удобный интерфейс и компактный дизайн делают его ценным дополнением к любому исследовательскому или производственному объекту.
Технические параметры одноцелевого магнетронного распылителя:
Таблица образцов возвратно-поступательного движения | размер | 50*100 мм | |
возвратно-поступательное движение скорость | 0~50 мм/с | ||
Магнетронная мишенная пушка | Цель самолет | Круглая плоская мишень | |
Напыление вакуум | 10 Па~0,2 Па | ||
Цель диаметр | 2 дюйма | ||
Цель толщина | Рекомендуется 2 ~ 5 мм. | ||
Цель температура | ℃65℃ | ||
Вакуумная камера | Полость размер | О Φ180 мм × В 215 мм | |
Полость материал | Высокий чистота кварца | ||
Наблюдение окно | Всенаправленный прозрачность | ||
Открытие метод | Съемный верхняя крышка | ||
источник питания | ОКРУГ КОЛУМБИЯ источник питания | 150 Вт макс. | |
Количество | 1 | ||
Молекулярная насосная система | Форлайн насос | Роторный лопастной насос | ВРД-4 |
Накачка скорость | 1,1 л/с | ||
Окончательный вакуум | 5*10-1Па | ||
Молекулярный насос | Молекулярный скорость откачки | 600л/с | |
Рейтинг скорость | 24000 об/мин | ||
Окончательный вакуум | 5*10-5Па | ||
Вибрация ценить | ≦0,1 мкм | ||
Начинать Time | ≦4,5 мин. | ||
Время простоя | <7 минут | ||
охлаждение метод | Водяное охлаждение + воздушное охлаждение | ||
Кулер | Охлаждение температура воды | ≦37℃ | |
Охлаждение расход воды | 10л/мин | ||
Напряжение питания | 220 В переменного тока, 50 Гц | ||
