Вы здесь: Дом / Продукты / Устройство для нанесения магнетронного напыления / Устройство для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью и переходной камерой для лабораторных образцов SEM

Устройство для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью и переходной камерой для лабораторных образцов SEM

Это устройство можно использовать для изготовления однослойных или многослойных тонких сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок, оксидных пленок, твердых пленок, пленок из ПТФЭ и т.п.
штат:
Количество:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN-MSP325G-2T-DVC-2DC

  • TN

Устройство для нанесения магнетронного распыления с двойной мишенью предназначено для обеспечения равномерного и однородного покрытия на лабораторных образцах, полученных методом СЭМ.Благодаря двойной целевой системе он позволяет одновременно наносить различные материалы, что позволяет создавать сложные многослойные структуры.Эта функция особенно полезна для изучения свойств и поведения различных тонких пленок.


В устройстве для нанесения покрытия используется технология магнетронного распыления постоянного тока, которая обеспечивает высокую скорость осаждения и превосходное качество пленки.Процесс распыления включает бомбардировку целевого материала ионами высокой энергии, в результате чего атомы выбрасываются и осаждаются на подложку.В результате получается плотная и липкая пленка с точным контролем толщины и состава.


Переходная камера, входящая в состав этого устройства для нанесения покрытий, облегчает перенос образцов с покрытием на РЭМ без воздействия воздуха, сводя к минимуму риск загрязнения.Это имеет решающее значение для сохранения целостности образцов и получения точных результатов анализа.Камера имеет удобный интерфейс, позволяющий легко загружать и выгружать образцы.


Благодаря своей прочной конструкции и расширенным функциям установка для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью и переходной камерой является важным инструментом для исследователей и ученых, работающих с тонкими пленками.Он предлагает точные и надежные возможности нанесения покрытий, позволяя производить высококачественные образцы для широкого спектра применений.Будь то в научных кругах или в промышленности, это устройство для нанесения покрытий является ценным активом для любой лаборатории, стремящейся продвинуть свои исследования в области материаловедения и смежных областях.


Устройство для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью Технические параметры:


Наименование товара

Устройство для нанесения покрытий методом магнетронного напыления с двойной мишенью и переходной камерой

Модель продукта

TN-MSP325G-2T-DVC-2DC (двойная вакуумная камера)

Условия установки

1. Температура рабочей среды 25 ℃ ± 15 ℃, влажность 55% ± 10% относительной влажности;

2. Источник питания оборудования: 220 В переменного тока, 50 Гц, должен быть хорошо заземлен;

3. Номинальная мощность: 5000 Вт;

4. Газ для оборудования: камера оборудования должна быть заполнена аргоном для очистки, а заказчику необходимо подготовить аргон с чистотой ≥99,99%;

5. Размер площадки 1200×1200×2000 мм;

6. Положение размещения требует хорошей вентиляции и отвода тепла.

Технические характеристики

1. Источник питания для распыления: источник постоянного тока 500 Вт x2;максимальное выходное напряжение 600 В, предел выходного тока 1000 мА

2. Магнетронная мишень: 2-дюймовая сбалансированная мишень с перегородкой магнитной связи;

3. Применимый материал мишени для магнетронной мишени: проводящий металлический материал φ50 мм x 3 мм толщиной.

4. Размер полости: основная полость φ325 x 410 мм;переходная полость 150х150х150мм

5. Функция камеры: Основная камера оснащена боковой дверцей, уплотненной уплотнительным кольцом, кварцевым смотровым окном с перегородкой и стержнем ручного управления для переноса образцов.Переходная камера снабжена верхней крышкой с кварцевым окном, уплотненным уплотнительным кольцом, магнитной муфтой-толкателем для транспортировки образцов в основную камеру и независимой вакуумной системой.

6. Материал полости: нержавеющая сталь 304.

7. Вращающийся нагревательный стол для образцов: скорость плавно регулируется от 1 до 20 об/мин;температура нагрева — до 500°С, рекомендуемая скорость нагрева — 10°С/мин, максимальная температура — 20°С/мин.

8. Метод охлаждения: магнетронная мишень и молекулярный насос нуждаются в охладителе циркулирующей воды;

9. Охладитель воды: объем резервуара для воды 9 л, скорость потока 10 л/мин.

10. Система подачи газа: массовый расходомер, тип газа AR, расход 1 ~ 200 см3 (настраиваемый);

11. Точность расходомера: диапазон ± 1,5%.

12. Насосный интерфейс вакуумной камеры — CF160;

13. Интерфейс воздухозаборника представляет собой двойное уплотнительное соединение диаметром 1/4 дюйма;

14. На дисплее представлены 14 промышленных компьютеров «все-в-одном»;

15. Ток распыления можно регулировать, а также устанавливать безопасное значение тока распыления и безопасное значение вакуума;

16. Защитная защита: ток распыления автоматически отключается, когда перегрузка по току и вакуум слишком низкие;

17. Вакуумная система: основная камера оснащена высоковакуумным молекулярным насосом CY-GZK103 со скоростью откачки 600 л/с;переходная камера оснащена небольшим молекулярным насосом со скоростью откачки 60 л/с.Два комплекта вакуумных систем могут работать и управлять независимо, а пневматические клапаны между камерами и в вакуумной системе управляются программами, которые могут осуществлять действие одной кнопкой, что удобно и быстро.

18. Предельный вакуум: 5Э-4Па (с молекулярным насосом);

19. Для измерения вакуума используется композитный вакуумметр, его диапазон: 10-5Па~105Па.

Меры предосторожности

1. Для достижения более высокой бескислородной среды вакуумную камеру необходимо очистить инертным газом высокой чистоты не менее 3 раз.

2. Магнетронное распыление более чувствительно к объему всасываемого воздуха, поэтому для контроля объема всасываемого воздуха необходимо использовать массовый расходомер.

3. Держите полость в вакууме, когда оборудование не используется.

4. Если пылесос не использовался в течение длительного времени, при повторном использовании его следует дегазировать, чтобы улучшить характеристики вакуума.

Дополнительные аксессуары

Монитор толщины пленки

1. Разрешение толщины пленки: 0,0136Å (алюминий).

2. Точность толщины пленки: ±0,5%, в зависимости от условий процесса, особенно от положения датчика, напряжения материала, температуры и плотности.

3. Скорость измерения: 100 мс-1 с/время, диапазон измерения может быть установлен: 500 000 Å (алюминий)

4. Стандартный сенсорный кристалл: 6 МГц

5. Применимая частота чипа: 6 МГц. Применимый размер чипа: Φ14 мм. Монтажный фланец: CF35.

Другие аксессуары

1. Высокопроизводительный молекулярный насос серии TN-CZK103 (включая составной вакуумметр, диапазон измерения 10-5Па~105Па);

Комплект малых молекулярных насосов серии TN-GZK60 (включая составной вакуумметр, диапазон измерения 10-5Па~102Па)

Биполярный пластинчато-роторный вакуумный насос ВРД-4;

2. Вакуумные сильфоны КФ25/40;длина может быть 0,5м, 1м, 1,5м;Зажимной кронштейн KF25

3. Кварцевый генератор толщиномера пленки;


на: 
под: 
ЗАПРОС О ПРОДУКТЕ

СОПУТСТВУЮЩИЕ ТОВАРЫ

Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Компания-производитель, специализирующаяся на производстве лабораторных научных приборов.Наша продукция широко используется в колледжах, исследовательских институтах и ​​лабораториях.

БЫСТРЫЕ ССЫЛКИ

СВЯЗАТЬСЯ С НАМИ

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Комната 401, 4-й этаж, корпус 5, Новый город технологий Чжэнчжоу Ида, улица Цзиньчжан, зона высоких технологий, город Чжэнчжоу
Авторское право © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Поддержка leadong.com