штат: | |
---|---|
Количество: | |
TN-MSP325G-2T-DVC-2DC
TN
Устройство для нанесения магнетронного распыления с двойной мишенью предназначено для обеспечения равномерного и однородного покрытия на лабораторных образцах, полученных методом СЭМ.Благодаря двойной целевой системе он позволяет одновременно наносить различные материалы, что позволяет создавать сложные многослойные структуры.Эта функция особенно полезна для изучения свойств и поведения различных тонких пленок.
В устройстве для нанесения покрытия используется технология магнетронного распыления постоянного тока, которая обеспечивает высокую скорость осаждения и превосходное качество пленки.Процесс распыления включает бомбардировку целевого материала ионами высокой энергии, в результате чего атомы выбрасываются и осаждаются на подложку.В результате получается плотная и липкая пленка с точным контролем толщины и состава.
Переходная камера, входящая в состав этого устройства для нанесения покрытий, облегчает перенос образцов с покрытием на РЭМ без воздействия воздуха, сводя к минимуму риск загрязнения.Это имеет решающее значение для сохранения целостности образцов и получения точных результатов анализа.Камера имеет удобный интерфейс, позволяющий легко загружать и выгружать образцы.
Благодаря своей прочной конструкции и расширенным функциям установка для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью и переходной камерой является важным инструментом для исследователей и ученых, работающих с тонкими пленками.Он предлагает точные и надежные возможности нанесения покрытий, позволяя производить высококачественные образцы для широкого спектра применений.Будь то в научных кругах или в промышленности, это устройство для нанесения покрытий является ценным активом для любой лаборатории, стремящейся продвинуть свои исследования в области материаловедения и смежных областях.
Устройство для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью Технические параметры:
Наименование товара | Устройство для нанесения покрытий методом магнетронного напыления с двойной мишенью и переходной камерой |
Модель продукта | TN-MSP325G-2T-DVC-2DC (двойная вакуумная камера) |
Условия установки | 1. Температура рабочей среды 25 ℃ ± 15 ℃, влажность 55% ± 10% относительной влажности; 2. Источник питания оборудования: 220 В переменного тока, 50 Гц, должен быть хорошо заземлен; 3. Номинальная мощность: 5000 Вт; 4. Газ для оборудования: камера оборудования должна быть заполнена аргоном для очистки, а заказчику необходимо подготовить аргон с чистотой ≥99,99%; 5. Размер площадки 1200×1200×2000 мм; 6. Положение размещения требует хорошей вентиляции и отвода тепла. |
Технические характеристики | 1. Источник питания для распыления: источник постоянного тока 500 Вт x2;максимальное выходное напряжение 600 В, предел выходного тока 1000 мА 2. Магнетронная мишень: 2-дюймовая сбалансированная мишень с перегородкой магнитной связи; 3. Применимый материал мишени для магнетронной мишени: проводящий металлический материал φ50 мм x 3 мм толщиной. 4. Размер полости: основная полость φ325 x 410 мм;переходная полость 150х150х150мм 5. Функция камеры: Основная камера оснащена боковой дверцей, уплотненной уплотнительным кольцом, кварцевым смотровым окном с перегородкой и стержнем ручного управления для переноса образцов.Переходная камера снабжена верхней крышкой с кварцевым окном, уплотненным уплотнительным кольцом, магнитной муфтой-толкателем для транспортировки образцов в основную камеру и независимой вакуумной системой. 6. Материал полости: нержавеющая сталь 304. 7. Вращающийся нагревательный стол для образцов: скорость плавно регулируется от 1 до 20 об/мин;температура нагрева — до 500°С, рекомендуемая скорость нагрева — 10°С/мин, максимальная температура — 20°С/мин. 8. Метод охлаждения: магнетронная мишень и молекулярный насос нуждаются в охладителе циркулирующей воды; 9. Охладитель воды: объем резервуара для воды 9 л, скорость потока 10 л/мин. 10. Система подачи газа: массовый расходомер, тип газа AR, расход 1 ~ 200 см3 (настраиваемый); 11. Точность расходомера: диапазон ± 1,5%. 12. Насосный интерфейс вакуумной камеры — CF160; 13. Интерфейс воздухозаборника представляет собой двойное уплотнительное соединение диаметром 1/4 дюйма; 14. На дисплее представлены 14 промышленных компьютеров «все-в-одном»; 15. Ток распыления можно регулировать, а также устанавливать безопасное значение тока распыления и безопасное значение вакуума; 16. Защитная защита: ток распыления автоматически отключается, когда перегрузка по току и вакуум слишком низкие; 17. Вакуумная система: основная камера оснащена высоковакуумным молекулярным насосом CY-GZK103 со скоростью откачки 600 л/с;переходная камера оснащена небольшим молекулярным насосом со скоростью откачки 60 л/с.Два комплекта вакуумных систем могут работать и управлять независимо, а пневматические клапаны между камерами и в вакуумной системе управляются программами, которые могут осуществлять действие одной кнопкой, что удобно и быстро. 18. Предельный вакуум: 5Э-4Па (с молекулярным насосом); 19. Для измерения вакуума используется композитный вакуумметр, его диапазон: 10-5Па~105Па. |
Меры предосторожности | 1. Для достижения более высокой бескислородной среды вакуумную камеру необходимо очистить инертным газом высокой чистоты не менее 3 раз. 2. Магнетронное распыление более чувствительно к объему всасываемого воздуха, поэтому для контроля объема всасываемого воздуха необходимо использовать массовый расходомер. 3. Держите полость в вакууме, когда оборудование не используется. 4. Если пылесос не использовался в течение длительного времени, при повторном использовании его следует дегазировать, чтобы улучшить характеристики вакуума. |
Дополнительные аксессуары | |
Монитор толщины пленки | 1. Разрешение толщины пленки: 0,0136Å (алюминий). 2. Точность толщины пленки: ±0,5%, в зависимости от условий процесса, особенно от положения датчика, напряжения материала, температуры и плотности. 3. Скорость измерения: 100 мс-1 с/время, диапазон измерения может быть установлен: 500 000 Å (алюминий) 4. Стандартный сенсорный кристалл: 6 МГц 5. Применимая частота чипа: 6 МГц. Применимый размер чипа: Φ14 мм. Монтажный фланец: CF35. |
Другие аксессуары | 1. Высокопроизводительный молекулярный насос серии TN-CZK103 (включая составной вакуумметр, диапазон измерения 10-5Па~105Па); Комплект малых молекулярных насосов серии TN-GZK60 (включая составной вакуумметр, диапазон измерения 10-5Па~102Па) Биполярный пластинчато-роторный вакуумный насос ВРД-4; 2. Вакуумные сильфоны КФ25/40;длина может быть 0,5м, 1м, 1,5м;Зажимной кронштейн KF25 3. Кварцевый генератор толщиномера пленки; |
Устройство для нанесения магнетронного распыления с двойной мишенью предназначено для обеспечения равномерного и однородного покрытия на лабораторных образцах, полученных методом СЭМ.Благодаря двойной целевой системе он позволяет одновременно наносить различные материалы, что позволяет создавать сложные многослойные структуры.Эта функция особенно полезна для изучения свойств и поведения различных тонких пленок.
В устройстве для нанесения покрытия используется технология магнетронного распыления постоянного тока, которая обеспечивает высокую скорость осаждения и превосходное качество пленки.Процесс распыления включает бомбардировку целевого материала ионами высокой энергии, в результате чего атомы выбрасываются и осаждаются на подложку.В результате получается плотная и липкая пленка с точным контролем толщины и состава.
Переходная камера, входящая в состав этого устройства для нанесения покрытий, облегчает перенос образцов с покрытием на РЭМ без воздействия воздуха, сводя к минимуму риск загрязнения.Это имеет решающее значение для сохранения целостности образцов и получения точных результатов анализа.Камера имеет удобный интерфейс, позволяющий легко загружать и выгружать образцы.
Благодаря своей прочной конструкции и расширенным функциям установка для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью и переходной камерой является важным инструментом для исследователей и ученых, работающих с тонкими пленками.Он предлагает точные и надежные возможности нанесения покрытий, позволяя производить высококачественные образцы для широкого спектра применений.Будь то в научных кругах или в промышленности, это устройство для нанесения покрытий является ценным активом для любой лаборатории, стремящейся продвинуть свои исследования в области материаловедения и смежных областях.
Устройство для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью Технические параметры:
Наименование товара | Устройство для нанесения покрытий методом магнетронного напыления с двойной мишенью и переходной камерой |
Модель продукта | TN-MSP325G-2T-DVC-2DC (двойная вакуумная камера) |
Условия установки | 1. Температура рабочей среды 25 ℃ ± 15 ℃, влажность 55% ± 10% относительной влажности; 2. Источник питания оборудования: 220 В переменного тока, 50 Гц, должен быть хорошо заземлен; 3. Номинальная мощность: 5000 Вт; 4. Газ для оборудования: камера оборудования должна быть заполнена аргоном для очистки, а заказчику необходимо подготовить аргон с чистотой ≥99,99%; 5. Размер площадки 1200×1200×2000 мм; 6. Положение размещения требует хорошей вентиляции и отвода тепла. |
Технические характеристики | 1. Источник питания для распыления: источник постоянного тока 500 Вт x2;максимальное выходное напряжение 600 В, предел выходного тока 1000 мА 2. Магнетронная мишень: 2-дюймовая сбалансированная мишень с перегородкой магнитной связи; 3. Применимый материал мишени для магнетронной мишени: проводящий металлический материал φ50 мм x 3 мм толщиной. 4. Размер полости: основная полость φ325 x 410 мм;переходная полость 150х150х150мм 5. Функция камеры: Основная камера оснащена боковой дверцей, уплотненной уплотнительным кольцом, кварцевым смотровым окном с перегородкой и стержнем ручного управления для переноса образцов.Переходная камера снабжена верхней крышкой с кварцевым окном, уплотненным уплотнительным кольцом, магнитной муфтой-толкателем для транспортировки образцов в основную камеру и независимой вакуумной системой. 6. Материал полости: нержавеющая сталь 304. 7. Вращающийся нагревательный стол для образцов: скорость плавно регулируется от 1 до 20 об/мин;температура нагрева — до 500°С, рекомендуемая скорость нагрева — 10°С/мин, максимальная температура — 20°С/мин. 8. Метод охлаждения: магнетронная мишень и молекулярный насос нуждаются в охладителе циркулирующей воды; 9. Охладитель воды: объем резервуара для воды 9 л, скорость потока 10 л/мин. 10. Система подачи газа: массовый расходомер, тип газа AR, расход 1 ~ 200 см3 (настраиваемый); 11. Точность расходомера: диапазон ± 1,5%. 12. Насосный интерфейс вакуумной камеры — CF160; 13. Интерфейс воздухозаборника представляет собой двойное уплотнительное соединение диаметром 1/4 дюйма; 14. На дисплее представлены 14 промышленных компьютеров «все-в-одном»; 15. Ток распыления можно регулировать, а также устанавливать безопасное значение тока распыления и безопасное значение вакуума; 16. Защитная защита: ток распыления автоматически отключается, когда перегрузка по току и вакуум слишком низкие; 17. Вакуумная система: основная камера оснащена высоковакуумным молекулярным насосом CY-GZK103 со скоростью откачки 600 л/с;переходная камера оснащена небольшим молекулярным насосом со скоростью откачки 60 л/с.Два комплекта вакуумных систем могут работать и управлять независимо, а пневматические клапаны между камерами и в вакуумной системе управляются программами, которые могут осуществлять действие одной кнопкой, что удобно и быстро. 18. Предельный вакуум: 5Э-4Па (с молекулярным насосом); 19. Для измерения вакуума используется композитный вакуумметр, его диапазон: 10-5Па~105Па. |
Меры предосторожности | 1. Для достижения более высокой бескислородной среды вакуумную камеру необходимо очистить инертным газом высокой чистоты не менее 3 раз. 2. Магнетронное распыление более чувствительно к объему всасываемого воздуха, поэтому для контроля объема всасываемого воздуха необходимо использовать массовый расходомер. 3. Держите полость в вакууме, когда оборудование не используется. 4. Если пылесос не использовался в течение длительного времени, при повторном использовании его следует дегазировать, чтобы улучшить характеристики вакуума. |
Дополнительные аксессуары | |
Монитор толщины пленки | 1. Разрешение толщины пленки: 0,0136Å (алюминий). 2. Точность толщины пленки: ±0,5%, в зависимости от условий процесса, особенно от положения датчика, напряжения материала, температуры и плотности. 3. Скорость измерения: 100 мс-1 с/время, диапазон измерения может быть установлен: 500 000 Å (алюминий) 4. Стандартный сенсорный кристалл: 6 МГц 5. Применимая частота чипа: 6 МГц. Применимый размер чипа: Φ14 мм. Монтажный фланец: CF35. |
Другие аксессуары | 1. Высокопроизводительный молекулярный насос серии TN-CZK103 (включая составной вакуумметр, диапазон измерения 10-5Па~105Па); Комплект малых молекулярных насосов серии TN-GZK60 (включая составной вакуумметр, диапазон измерения 10-5Па~102Па) Биполярный пластинчато-роторный вакуумный насос ВРД-4; 2. Вакуумные сильфоны КФ25/40;длина может быть 0,5м, 1м, 1,5м;Зажимной кронштейн KF25 3. Кварцевый генератор толщиномера пленки; |