Настольный тип с двойной целью магнетронного распыления для фотоэлектрических элементов

TN-MSP210S-RFD Настольный двухмишенный магнетронный аппарат для нанесения покрытий.Оборудование было миниатюризировано, сохранив при этом полость из нержавеющей стали с высоким вакуумом, упростив при этом другие механизмы, ограничив форму оборудования уровнем рабочего стола, что значительно снизило требования к месту установки.Оборудование оснащено источником питания постоянного тока и источником радиочастотного питания.Мишень постоянного тока можно использовать для распыления металлов и других проводящих материалов.Радиочастотный источник питания можно использовать для распыления различных неметаллов и оксидов металлов.Вакуумная система оборудования использует все импортные вакуумные насосы с высокой скоростью откачки, высоким предельным вакуумом и отличными вакуумными характеристиками.Оборудование имеет компактную конструкцию, отличные функции и простоту в использовании.Он очень подходит для различных испытаний покрытий.

Это устройство можно использовать для изготовления однослойных или многослойных тонких сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок, оксидных пленок, твердых пленок, пленок из ПТФЭ и т.п.По сравнению с аналогичным оборудованием, этот трехцелевой магнетронный аппарат для нанесения покрытий не только широко используется, но также имеет преимущества небольшого размера и простоты эксплуатации, а также является идеальным оборудованием для подготовки пленок материала в лаборатории.

Устройство для нанесения магнетронного напыления с двойной мишенью настольного типа Технические параметры: