Вы здесь: Дом / Продукты / Машина для осаждения паров / Роторная печь для подготовки графена с одной зоной нагрева PECVD

Роторная печь для подготовки графена с одной зоной нагрева PECVD

Высокотемпературная вертикально-скользящая ротационная трубчатая печь PECVD, система PECVD (ICP PECVD) для осаждения толстых пленок SiOx, Ge-SiOx

 
штат:
Количество:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Роторный PECVD с одной зоной нагрева, оснащенный вакуумным автоматическим питателем и интерфейсом KF40, зарезервированным на конце трубы печи, можно подключить к приемному баку.Питатель использует шнековую подачу, порошок можно подавать в трубу печи с номинальной скоростью, а скорость подачи можно изменять, регулируя скорость вращения.Он может осуществлять непрерывное покрытие и модификацию порошковых материалов методом PECVD в условиях защиты атмосферы.Приемный резервуар может собирать обработанный порошок в условиях защиты атмосферы.

Оборудование оснащено радиочастотной мощностью 100 Вт на частоте 13,56 МГц.Он может генерировать плазму в вакууме.Высокоэнергетическая плазма может активировать поверхность образца, эффективно усиливать эффект реакции и увеличивать скорость реакции.Этот вспомогательный метод широко используется в научных экспериментах, таких как получение графена и покрытие частиц.

Это оборудование особенно подходит для экспериментов с гранулированными образцами.Благодаря механической передаче он может контролировать непрерывное вращение рабочей трубки на 360° с регулируемой скоростью вращения, благодаря чему материалы в трубке непрерывно перемешиваются и смешиваются, а также полностью контактируют с газом и плазмой, чтобы реакция образца является более однородным и стабильным.

Технические характеристики

ВЧ источник питания

Выход   Власть

150 Вт

Выход   точность

±1%

РФ   частота

13,56 МГц

РФ   стабильность

±0,005%

Охлаждение   метод

Воздушное охлаждение

1200 ℃ Одиночный   трубчатая печь с зоной нагрева

Поставлять   Напряжение

220 В переменного тока, 50 Гц

Максимум   власть

2кВт

Обогрев   зона

Одинокий   зона нагрева 200мм

Работающий   температура

Максимум   1200 ℃,   постоянная рабочая температура должна быть ≤1100 ℃.

Температура   точность

±   1 ℃

Температура   метод управления

АИ-ПИД   30-ступенчатая кривая процесса, может хранить несколько

Три   независимое регулирование температурной зоны, с перегревом и выходом из строя термопары   защита

Печь   материал трубки

Высокий   чистота кварца

Печь   размер трубки

Диам.   50х800мм

Уплотнение   метод

Вакуум   фланец из нержавеющей стали, фланец KF16

Adjustable   скорость

0-20 об/мин

склон

0-15°

Вакуум   насос

Роторный   лопастной механический насос

Окончательный   вакуум

1,0Э-1Па

Кормление   метод

Вакуум   воронка и шнековая подача


на: 
под: 
ЗАПРОС О ПРОДУКТЕ

СОПУТСТВУЮЩИЕ ТОВАРЫ

Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Компания-производитель, специализирующаяся на производстве лабораторных научных приборов.Наша продукция широко используется в колледжах, исследовательских институтах и ​​лабораториях.

БЫСТРЫЕ ССЫЛКИ

СВЯЗАТЬСЯ С НАМИ

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Комната 401, 4-й этаж, корпус 5, Новый город технологий Чжэнчжоу Ида, улица Цзиньчжан, зона высоких технологий, город Чжэнчжоу
Авторское право © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Поддержка leadong.com