Вы здесь: Дом / Продукты / Машина для осаждения паров / Плазменное химическое осаждение из паровой фазы Производство графена и спекание материалов

Плазменное химическое осаждение из паровой фазы Производство графена и спекание материалов

Плазменное химическое осаждение из паровой фазы Производство графена и спекание материалов

Плазменное химическое осаждение из паровой фазы Производство графена и спекание материалов, предлагаемые китайским производителем Tainuo Thin Film.Купите плазменное химическое осаждение из паровой фазы Pecvd, производство графена и спекание материалов напрямую по низкой цене и высокому качеству.

Количество:
штат:





Запрос цены Добавить в корзину

Модель:
ТН-1200Х-III-50ИК
Марка продукта:
TN

Описание продукта

Это оборудование состоит из генератора плазмы, трубчатой печи с тремя зонами нагрева, трубчатой печи с одной зоной нагрева, источника высокочастотного питания и вакуумной системы.

Чтобы химическая реакция протекала при более низкой температуре, активность плазмы используется для ускорения реакции, и поэтому CVD называется плазменным химическим осаждением из паровой фазы (PECVD).Устройство для подготовки графеновой пленки PECVD ионизирует газ, содержащий атом, составляющий пленку, с помощью РЧ-выхода 13,56 МГц, образует плазму в вакуумной камере, использует сильную химическую активность плазмы, улучшает условия реакции и использует активность плазмы для продвижения реакция, а затем осаждает желаемую пленку на подложке.

Это оборудование можно использовать в различных местах испытаний, таких как подготовка графена, подготовка сульфидов и подготовка нанометровых материалов.На поверхность листа или образца аналогичной формы можно наносить различные пленки, такие как SiOx, SiNx, аморфный кремний, микрокристаллический кремний, нанокремний, SiC, алмазоподобные и т. д., а также легированные пленки p-типа и n-типа. также можно внести на хранение.Осажденная пленка обладает хорошей однородностью, компактностью, адгезией и изоляцией.Он широко используется в области фрез, высокоточных форм, твердых покрытий, высококачественной отделки и т. д.

Трехзонная трубчатая печь	Модель	ТН-1200Х-III-50ИК
	Трубка материал	Кварц высокой чистоты
	Трубка диаметр	50 мм
	Длина трубки	1000 мм
	Печь длина камеры	660 мм
	Зона нагрева длина	200мм+200мм+200мм
	Операционная температура	0～1100℃
	Температура точность управления	±1℃
	Температура режим управления	30 или 50 Сегментный программный контроль температуры
	Режим отображения	ВЕЛ (выделить дисплей цифровой трубки)
	Уплотнение метод	304 нержавеющая сталь стальной вакуумный фланец
	Фланец интерфейс	1/4 дюйма режущая муфта (пагода Ø8)
	Вакуум	4,4×10Э-3Па
	Источник питания	Переменный ток: 220 В 50/60 Гц
Трубчатая печь с одной зоной нагрева	Модель	CY-O1200-50IC
	Трубка материал	Кварц высокой чистоты
	Трубка диаметр	50 мм
	Длина трубки	1000 мм
	Печь длина камеры	440 мм
	Зона нагрева длина	400 мм
	Постоянный температурная зона	200 мм
	Операционная температура	0～1100℃
	Температура точность управления	±1℃
	Температура режим управления	30 или 50 Сегментный программный контроль температуры
	Режим отображения	ВЕЛ (выделить дисплей цифровой трубки)
	Уплотнение метод	304 нержавеющая сталь стальной вакуумный фланец
	Фланец интерфейс	1/4 дюйма режущая муфта (пагода Ø8)
	Вакуум	4,4×10Э-3Па
	Источник питания	Переменный ток: 220 В 50/60 Гц
Система радиочастотного вывода	Диапазон мощности	0 ~ 500 Вт регулируемый
	Рабочая частота	3,56 МГц+0,005%
	Рабочий режим	Непрерывный вывод
	Режим отображения	ЖК-дисплей
	Режим согласованного импеданса	Может совпадать, свечение равномерно покрыто с тремя топочными трубами зоны нагрева
	Стабильность мощности	≤2 Вт
	Нормальная рабочая отраженная мощность	≤3 Вт
	Усиленная отраженная мощность	≤70 Вт
	Гармоническая составляющая	≤-50 дБн
	Эффективность машины	≥70%
	Фактор силы	≥90%
	Напряжение питания/частота	Однофазный переменный ток (187–153 В) Частота 50/60 Гц
	Режим управления	Внутреннее управление / аналоговый ПЛК / RS232 / 485 общение
	Настройки защиты электропитания	Защита от перегрузки по постоянному току, мощность защита усилителя от перегрева, защита от отраженной мощности
	метод охлаждения	Принудительное воздушное охлаждение
	Длина свечения	В Ar источник питания RF и катушка объединяется для свечения, и свечение может заполнить всю длину печи три зоны нагрева.
Система газоснабжения	Четырехканальный массовый расходомер	Пекин Цисин Хуачуан, массовый расходомер
	Диапазон расхода	Диапазон MFC1: 0~200sccm Диапазон MFC2: 0~200сксм Диапазон MFC3: 0~500sccm Диапазон MFC4: 0~500сксм Соответствует газам H2, CH4, N2, Ar,
	точность измерения	±1,5% полной шкалы
	Повторяемость	±0,2% полной шкалы
	Линейная точность	±1% полной шкалы
	Время отклика	≤4 с
	Рабочее давление	-0,15 МПа~0,15 МПа
	управление потоком	ЖК-дисплей с сенсорным управлением, цифровой дисплей, каждый канал газа содержит игольчатый клапан для индивидуального управления
	Впускной интерфейс	Может быть подключен к внешнему разъему 1/4NPS или 6 мм. диаметр трубы из нержавеющей стали
	Выходной интерфейс	Может быть подключен к внешнему разъему 1/4NPS или 6 мм. диаметр трубы из нержавеющей стали
	Способ подключения	Двойное режущее муфтовое соединение
	Рабочая Температура	5~45℃
	Газовый премикс	Оснащен устройством предварительного смешивания газа.
Вытяжная система	Механический насос	ГХД-031Б
	Скорость откачки	4л/с
	Выхлопной интерфейс	КФ16
	Измерение вакуума	Калибр Пирани
	Предельный вакуум	1×10Э-1Па
	Источник питания	Переменный ток: 220 В 50/60 Гц
	Интерфейс накачки	КФ40
	Механический насос	ГХД-031Б
Железнодорожный	Длина рельса	2,5 м~3 м Он может реализовать скольжение одной печи длина положения в печи с тремя зонами нагрева для достижения быстрого повышение и понижение температуры.