| Количество: | |
|---|---|
CY-MSP325S-2DC-1RF
TN
Устройство для магнетронного распыления из нержавеющей стали с тремя мишенями оснащено камерой из нержавеющей стали и тремя магнетронными мишенями для распыления, что позволяет эффективно и точно наносить материалы.Устройство для нанесения покрытия также оснащено толщиномером пленки, обеспечивающим точный контроль толщины пленки в процессе нанесения покрытия.
Благодаря передовой технологии магнетронного распыления это устройство для нанесения покрытий способно производить высококачественные тонкие пленки с превосходной адгезией и однородностью.Камера из нержавеющей стали обеспечивает чистую и стабильную среду для осаждения пленки, сводя к минимуму загрязнение и обеспечивая стабильные результаты.
Если вам нужно подготовить тонкие пленки ITO (оксид индия-олова) или другие функциональные пленки, эта трехмишенная установка для магнетронного напыления является надежным и универсальным решением.Удобный интерфейс и интуитивно понятное управление облегчают работу даже пользователям с ограниченным опытом.
Устройство для нанесения покрытий разработано с использованием компонентов профессионального уровня и рассчитано на длительное использование в лабораторных или производственных условиях.Его прочная конструкция и надежная работа обеспечивают длительный срок службы и минимальные требования к техническому обслуживанию.
Инвестируйте в трехмишенную установку магнетронного напыления из нержавеющей стали с толщиномером пленки для ITO Indium T и испытайте эффективное и точное осаждение пленки для широкого спектра применений.Благодаря функциям профессионального уровня и удобному дизайну эта установка для нанесения покрытий является идеальным выбором для исследователей, инженеров и производителей, которым необходимы высококачественные тонкопленочные покрытия.
Образец этапа | Размер | Диаметр 140 мм |
Температура нагрева | Макс. 500 ℃ | |
Точность температуры | ±1℃ | |
Скорость вращения | 1-20 об/мин регулируемый | |
Магнетронная распылительная головка | Количество | 2'×3 (1',2' опционально) |
Режим охлаждения | Водяное охлаждение | |
Охладитель воды | Охладитель циркуляционной воды со скоростью потока 10 л/мин. | |
Вакуумная камера | Размер камеры | Диаметр 300 мм×300 мм |
Материал камеры | Нержавеющая сталь | |
Окно просмотра | Диаметр 100 мм | |
Режим открытия | Верхняя крышка открыта | |
Массовый расходомер | 2 канала;диапазон измерения 100SCCM;100SCCM (может быть настроен в соответствии с потребностями клиента) | |
Вакуумная система | Модель | ТН-ГЗК103-А |
Молекулярный насос | ТН-600 | |
Форвакуумный насос | Роторно-лопастной насос | |
Предельный вакуум | 1,0Э-5Па | |
Интерфейс накачки | CF160 | |
Выхлопной интерфейс | КФ40 | |
Измерение вакуума | Составной вакуумметр | |
Источник питания | переменный ток;220В 50/60 Гц | |
Скорость откачки | Молекулярный насос: 600 л/с пластинчато-роторный насос: 1,1 л/с Комплексная производительность откачки газа: вакуум до 1,0E-3Па за 20 минут. | |
Конфигурация питания | Количество | Источник питания постоянного тока x2 Радиочастотный источник питания x1 |
Максимальная выходная мощность | 500 Вт постоянного тока, РЧ 500 Вт | |
Другие параметры | Напряжение питания | 220 В переменного тока, 50 Гц |
Суммарная мощность | 4кВт | |
Общий размер | 600мм×650мм×1200мм | |
Общий вес | Около 350 кг | |
Устройство для магнетронного распыления из нержавеющей стали с тремя мишенями оснащено камерой из нержавеющей стали и тремя магнетронными мишенями для распыления, что позволяет эффективно и точно наносить материалы.Устройство для нанесения покрытия также оснащено толщиномером пленки, обеспечивающим точный контроль толщины пленки в процессе нанесения покрытия.
Благодаря передовой технологии магнетронного распыления это устройство для нанесения покрытий способно производить высококачественные тонкие пленки с превосходной адгезией и однородностью.Камера из нержавеющей стали обеспечивает чистую и стабильную среду для осаждения пленки, сводя к минимуму загрязнение и обеспечивая стабильные результаты.
Если вам нужно подготовить тонкие пленки ITO (оксид индия-олова) или другие функциональные пленки, эта трехмишенная установка для магнетронного напыления является надежным и универсальным решением.Удобный интерфейс и интуитивно понятное управление облегчают работу даже пользователям с ограниченным опытом.
Устройство для нанесения покрытий разработано с использованием компонентов профессионального уровня и рассчитано на длительное использование в лабораторных или производственных условиях.Его прочная конструкция и надежная работа обеспечивают длительный срок службы и минимальные требования к техническому обслуживанию.
Инвестируйте в трехмишенную установку магнетронного напыления из нержавеющей стали с толщиномером пленки для ITO Indium T и испытайте эффективное и точное осаждение пленки для широкого спектра применений.Благодаря функциям профессионального уровня и удобному дизайну эта установка для нанесения покрытий является идеальным выбором для исследователей, инженеров и производителей, которым необходимы высококачественные тонкопленочные покрытия.
Образец этапа | Размер | Диаметр 140 мм |
Температура нагрева | Макс. 500 ℃ | |
Точность температуры | ±1℃ | |
Скорость вращения | 1-20 об/мин регулируемый | |
Магнетронная распылительная головка | Количество | 2'×3 (1',2' опционально) |
Режим охлаждения | Водяное охлаждение | |
Охладитель воды | Охладитель циркуляционной воды со скоростью потока 10 л/мин. | |
Вакуумная камера | Размер камеры | Диаметр 300 мм×300 мм |
Материал камеры | Нержавеющая сталь | |
Окно просмотра | Диаметр 100 мм | |
Режим открытия | Верхняя крышка открыта | |
Массовый расходомер | 2 канала;диапазон измерения 100SCCM;100SCCM (может быть настроен в соответствии с потребностями клиента) | |
Вакуумная система | Модель | ТН-ГЗК103-А |
Молекулярный насос | ТН-600 | |
Форвакуумный насос | Роторно-лопастной насос | |
Предельный вакуум | 1,0Э-5Па | |
Интерфейс накачки | CF160 | |
Выхлопной интерфейс | КФ40 | |
Измерение вакуума | Составной вакуумметр | |
Источник питания | переменный ток;220В 50/60 Гц | |
Скорость откачки | Молекулярный насос: 600 л/с пластинчато-роторный насос: 1,1 л/с Комплексная производительность откачки газа: вакуум до 1,0E-3Па за 20 минут. | |
Конфигурация питания | Количество | Источник питания постоянного тока x2 Радиочастотный источник питания x1 |
Максимальная выходная мощность | 500 Вт постоянного тока, РЧ 500 Вт | |
Другие параметры | Напряжение питания | 220 В переменного тока, 50 Гц |
Суммарная мощность | 4кВт | |
Общий размер | 600мм×650мм×1200мм | |
Общий вес | Около 350 кг | |
