| Количество: | |
|---|---|
ТН-ПЛД-450
TN
Прибор для нанесения покрытий методом импульсного лазерного осаждения и испарения PLD представляет собой универсальный и эффективный инструмент для подготовки широкого спектра тонкопленочных материалов. Этот передовой прибор использует технологию импульсного лазерного осаждения для точного нанесения тонких пленок на подложки с исключительным контролем и точностью.
Одной из ключевых особенностей устройства для нанесения покрытий методом импульсного лазерного осаждения и испарения PLD является его способность готовить различные типы тонкопленочных материалов, включая сверхпроводящие пленки, оксидные пленки, металлические пленки, полупроводниковые пленки и многое другое. Это делает его идеальным выбором для исследователей и ученых, работающих в самых разных областях: от материаловедения до электроники.
Благодаря передовым технологиям и возможностям точного осаждения, прибор для нанесения покрытий методом импульсного лазерного осаждения и испарения PLD обеспечивает непревзойденную производительность и надежность. Удобный интерфейс и интуитивно понятное управление облегчают эксплуатацию, а прочная конструкция обеспечивает долговечность.
Независимо от того, проводите ли вы исследования в лабораторных условиях или разрабатываете новые материалы для промышленного применения, прибор для нанесения покрытий методом импульсного лазерного осаждения и испарения PLD является ценным инструментом, который поможет вам достичь ваших целей с точностью и эффективностью. Инвестируйте в этот передовой инструмент сегодня и поднимите свои возможности осаждения тонких пленок на новый уровень.
Название продукта | Импульсное лазерное осаждение PLD, испарение инструмент для нанесения покрытия | |
Модель продукта | ТН-ПЛД-450 | |
Основная вакуумная система | Сферическая структура, размер: диам. 450 мм | |
Загрузка системы образцов | Вертикальная цилиндрическая конструкция, размер: диам. 150×150 мм | |
Конфигурация вакуумной системы | Основная вакуумная камера | Механический насос, молекулярный насос, клапан |
Загрузка системы образцов | Механический насос и молекулярный насос (совместно с первичной камерой), клапан | |
Предельное давление | Основная вакуумная система | ≤6*10-6Па (после выпечки и дегазации) |
Загрузка системы образцов | ≤6*10-3 Па (после обжига и дегазации) | |
Восстановление вакуума система | Основная вакуумная система | Оно может достигать 5х10-3Па за 20 минут ( Система подвергается воздействию атмосферы в течение короткого времени и наполненный сухой азот для начала закачки) |
Загрузка образца система | Оно может достигать 5х10-3Па за 20 минут ( Система подвергается воздействию атмосферы в течение короткого времени и наполненный сухой азот для начала закачки) | |
Вращающаяся целевая платформа | Максимальный размер цели составляет около 60 мм. Четыре целевых материала могут быть установлены одновременно, смена мишени происходит в революционное движение; каждая мишень может вращаться независимо, скорость вращения: 5-60. об/мин | |
Платформа для нагрева основания | Размер выборки | Диам. 51 |
Режим движения | Подложка вращается непрерывно, вращение скорость: 5-60 об/мин | |
Температура нагрева | Максимальная температура нагрева подложки: 800℃±1℃, контролируемый и регулируемый | |
Система газового контура | 1-контурный регулятор массового расхода, 1-контурный инфляционный клапан | |
Дополнительные аксессуары | Лазерное устройство | Совместим с когерентным лазером 201. |
Устройство сканирования лазерного луча | Механическая платформа 2D-сканирования, выполнение две степени свободы сканирования. | |
Компьютерная система управления | Содержание управления включает в себя общие цель преобразования, вращение цели, вращение образца, температура образца контроль, сканирование лазерным лучом и т.д. | |
Площадь пола | Основной блок | 1800*1800мм2 |
Электрический шкаф | 700 *700мм2(один) | |
Прибор для нанесения покрытий методом импульсного лазерного осаждения и испарения PLD представляет собой универсальный и эффективный инструмент для подготовки широкого спектра тонкопленочных материалов. Этот передовой прибор использует технологию импульсного лазерного осаждения для точного нанесения тонких пленок на подложки с исключительным контролем и точностью.
Одной из ключевых особенностей устройства для нанесения покрытий методом импульсного лазерного осаждения и испарения PLD является его способность готовить различные типы тонкопленочных материалов, включая сверхпроводящие пленки, оксидные пленки, металлические пленки, полупроводниковые пленки и многое другое. Это делает его идеальным выбором для исследователей и ученых, работающих в самых разных областях: от материаловедения до электроники.
Благодаря передовым технологиям и возможностям точного осаждения, прибор для нанесения покрытий методом импульсного лазерного осаждения и испарения PLD обеспечивает непревзойденную производительность и надежность. Удобный интерфейс и интуитивно понятное управление облегчают эксплуатацию, а прочная конструкция обеспечивает долговечность.
Независимо от того, проводите ли вы исследования в лабораторных условиях или разрабатываете новые материалы для промышленного применения, прибор для нанесения покрытий методом импульсного лазерного осаждения и испарения PLD является ценным инструментом, который поможет вам достичь ваших целей с точностью и эффективностью. Инвестируйте в этот передовой инструмент сегодня и поднимите свои возможности осаждения тонких пленок на новый уровень.
Название продукта | Импульсное лазерное осаждение PLD, испарение инструмент для нанесения покрытия | |
Модель продукта | ТН-ПЛД-450 | |
Основная вакуумная система | Сферическая структура, размер: диам. 450 мм | |
Загрузка системы образцов | Вертикальная цилиндрическая конструкция, размер: диам. 150×150 мм | |
Конфигурация вакуумной системы | Основная вакуумная камера | Механический насос, молекулярный насос, клапан |
Загрузка системы образцов | Механический насос и молекулярный насос (совместно с первичной камерой), клапан | |
Предельное давление | Основная вакуумная система | ≤6*10-6Па (после выпечки и дегазации) |
Загрузка системы образцов | ≤6*10-3 Па (после обжига и дегазации) | |
Восстановление вакуума система | Основная вакуумная система | Оно может достигать 5х10-3Па за 20 минут ( Система подвергается воздействию атмосферы в течение короткого времени и наполненный сухой азот для начала закачки) |
Загрузка образца система | Оно может достигать 5х10-3Па за 20 минут ( Система подвергается воздействию атмосферы в течение короткого времени и наполненный сухой азот для начала закачки) | |
Вращающаяся целевая платформа | Максимальный размер цели составляет около 60 мм. Четыре целевых материала могут быть установлены одновременно, смена мишени происходит в революционное движение; каждая мишень может вращаться независимо, скорость вращения: 5-60. об/мин | |
Платформа для нагрева основания | Размер выборки | Диам. 51 |
Режим движения | Подложка вращается непрерывно, вращение скорость: 5-60 об/мин | |
Температура нагрева | Максимальная температура нагрева подложки: 800℃±1℃, контролируемый и регулируемый | |
Система газового контура | 1-контурный регулятор массового расхода, 1-контурный инфляционный клапан | |
Дополнительные аксессуары | Лазерное устройство | Совместим с когерентным лазером 201. |
Устройство сканирования лазерного луча | Механическая платформа 2D-сканирования, выполнение две степени свободы сканирования. | |
Компьютерная система управления | Содержание управления включает в себя общие цель преобразования, вращение цели, вращение образца, температура образца контроль, сканирование лазерным лучом и т.д. | |
Площадь пола | Основной блок | 1800*1800мм2 |
Электрический шкаф | 700 *700мм2(один) | |
