Вы здесь: Дом / Продукты / Испарительный коатер / Мультиисточники испарения Устройство для нанесения покрытий методом испарения в высоком вакууме для осаждения Ti и Au для контактов

Мультиисточники испарения Устройство для нанесения покрытий методом испарения в высоком вакууме для осаждения Ti и Au для контактов

Установка для нанесения покрытий с высоким вакуумом и испарением в основном основана на испарении металлов/органических источников.Подходит для приготовления металлических элементов, оксидов, диэлектриков, полупроводниковых пленок.
штат:
Количество:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • ТН-ЭВП325С-2С

  • TN


Инструмент для нанесения покрытий с несколькими источниками испарения в высоком вакууме и четырьмя источниками нагрева — это оборудование профессионального уровня, предназначенное для точного и эффективного приготовления различных пленок.Этот высококачественный инструмент идеально подходит для задач, требующих осаждения проводящих, полупроводниковых, сегнетоэлектрических и оптических пленок.


Благодаря множеству источников испарения этот инструмент для нанесения покрытий обеспечивает исключительную универсальность и гибкость при нанесении пленки.Он позволяет одновременно испарять несколько материалов, создавая сложные структуры пленок с точным контролем состава и толщины.Эта особенность делает его идеальным выбором для исследований и разработок, а также для производственной среды.


Работая в условиях высокого вакуума, эта установка для нанесения покрытий методом испарения обеспечивает чистый процесс нанесения пленки без загрязнений.Вакуумная среда исключает присутствие нежелательных примесей, в результате чего получаются пленки превосходной чистоты и однородности.Это имеет решающее значение для приложений, где качество и производительность пленки имеют первостепенное значение.


Этот прибор, оснащенный четырьмя источниками нагрева, обеспечивает эффективный и равномерный нагрев испаряемых материалов.Точный контроль температуры обеспечивает оптимальную скорость испарения и характеристики осаждения, что приводит к получению высококачественных пленок с желаемыми свойствами.Источниками тепла можно управлять индивидуально, что позволяет избирательно испарять и откладывать различные материалы.


Прибор для нанесения покрытий в высоком вакууме Multi Evaporation Sources разработан с профессиональным подходом и обеспечивает надежные и повторяемые результаты.Его прочная конструкция и расширенные функции делают его пригодным для широкого спектра применений, включая микроэлектронику, оптику, нанотехнологии и материаловедение.


Инвестируйте в этот современный инструмент для нанесения покрытий, чтобы расширить возможности нанесения пленки и добиться превосходных результатов в ваших исследованиях или производственных процессах.Благодаря производительности профессионального уровня и исключительным характеристикам он является ценным активом для любой лаборатории или производственного предприятия, которому требуется точная и эффективная подготовка пленки.


Технические параметры:


Образец   этап

Размер

Макс   поддержка образца φ150 мм

Высота

Adjustable   вверх и вниз 70 мм

Испарение   источник

Количество

вольфрам   Лодка x2



Вакуум   камера

Камера   размер

Диам.   300 мм х 400 мм

Наблюдение   окно

Передний   φ100 мм с затеняющим листом

Камера   материал

304   нержавеющая сталь

Открытие   метод

Передний   дверь открыта

Фильм   контроль толщины

Кристалл   вибрационный прибор для измерения толщины пленки, опционально многоканальная пленка   контроллер толщины

Вакуум   система

Поддержка   насос

Двойной   ступенчатый пластинчато-роторный насос

Накачка   порт

КФ16

Вторичный   насос

Турбо   молекулярный насос

Накачка   порт

CF160

Вакуум   измерение

Сопротивление   + ионизация

Сложный   вакуумметр

Выхлоп   ставка

Механический   насос 1,1л/с

Молекулярный   насос 600л/с

Окончательный   вакуум

1,0Э-5Па

Власть   поставлять

220 В переменного тока, 50/60 Гц

Накачка   ставка

Роторный   лопастной насос: 1,1 л/с

Расходомер

Один   массовый расходомер 500sccm, газ Ar

Контроль   Система

ПЛК   автоматический контроль

Операция   интерфейс: сенсорный экран + панель управления

Другой

Поставлять   Напряжение

380 В переменного тока, 50 Гц

Машина   размер

1000 мм х 800 мм х 1500 мм

Общий   власть

5кВт

Машина   масса

350 кг


на: 
под: 
ЗАПРОС О ПРОДУКТЕ

СОПУТСТВУЮЩИЕ ТОВАРЫ

Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Компания-производитель, специализирующаяся на производстве лабораторных научных приборов.Наша продукция широко используется в колледжах, исследовательских институтах и ​​лабораториях.

БЫСТРЫЕ ССЫЛКИ

СВЯЗАТЬСЯ С НАМИ

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Комната 401, 4-й этаж, корпус 5, Новый город технологий Чжэнчжоу Ида, улица Цзиньчжан, зона высоких технологий, город Чжэнчжоу
Авторское право © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Поддержка leadong.com