| Количество: | |
|---|---|
TN-EVV195-II-HH-SS
TN
Представляем наш современный инструмент для нанесения покрытий методом термического испарения, разработанный для удовлетворения разнообразных потребностей в нанесении тонких пленок в различных отраслях промышленности. Этот ультрасовременный инструмент оснащен передовой технологией, позволяющей создавать высококачественные покрытия для широкого спектра применений.
Наш инструмент для нанесения покрытий методом термического испарения способен наносить различные покрытия, включая оптические покрытия, металлические и диэлектрические покрытия, декоративные покрытия, барьерные покрытия и защитные покрытия. Если вам нужна тонкая пленка для оптических целей или защитное покрытие для промышленного применения, наш прибор может обеспечить исключительные результаты.
Одной из ключевых особенностей нашего инструмента для нанесения покрытий методом термического испарения является возможность термического испарения в высоком вакууме. Эта технология позволяет точно контролировать процесс нанесения, каждый раз обеспечивая равномерное и стабильное покрытие. С помощью этого инструмента вы легко сможете добиться желаемой толщины и состава покрытия.
В дополнение к своим расширенным возможностям, наш инструмент для нанесения покрытий методом термического испарения отличается простотой использования и надежностью. Удобный интерфейс и интуитивно понятное управление упрощают эксплуатацию, а прочная конструкция обеспечивает длительную работу.
Доверьтесь нашему прибору для нанесения покрытий методом термического испарения, который точно и эффективно удовлетворит ваши потребности в нанесении тонких пленок. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать больше о том, как этот инструмент может принести пользу вашему бизнесу.
Технические параметры прибора для нанесения покрытия методом термического испарения в высоком вакууме:
Название продукта | Тепловая система с двойным источником высокого вакуума испарительное покрытие | |
Модель продукта | TN-EVV195-II-HH-SS | |
Образец этапа | Позиция | Верхняя настройка |
Dimensions | Диаметр φ65 мм | |
Скорость | 0-20 об/мин | |
Подача | Регулируемое расстояние между держателем образца и источник испарения | |
Регулируемая температура | ℃500℃ | |
Источник термического испарения | Корзина из вольфрамовой проволоки × 2, вольфрамовая лодочка × 2 | |
Источник питания испарения | Каждый источник испарения оснащен независимый источник питания; два источника испарения могут быть испарены в в то же время | |
Вакуумная камера | Размер полости | диаметрφ195мм×В210мм |
Окно наблюдения | диаметрφ100 мм | |
Материал полости | 304 Нержавеющая сталь | |
Способ открытия | Открыть крышку | |
Измерение толщины пленки | Измерение толщины кристаллической пленки прибор (контроллер толщины пленки также является опцией) | |
Вакуумная система | Форвакуумный насос | Биполярный пластинчато-роторный насос, перекачка газа скорость 1,1 л/с |
Вторичный насос | Турбомолекулярный насос, скорость откачки газа 600л/с | |
Измерение вакуума | Составной вакуумметр (ионизационный манометр + датчик сопротивления) | |
Система вакуумная | 5×10-4Па | |
Система управления | CYKYСамостоятельная разработка профессионального уровня контроллер | |
Другие параметры | Источник питания | 380 В переменного тока, 50 Гц |
Полный размер | 600мм×650мм×1500мм | |
Полная мощность | 7кВт | |
Полный вес | 260 кг | |
Устройство для нанесения покрытий методом термического испарения в высоком вакууме — это оборудование, используемое для нанесения тонких пленок на подложки посредством процесса термического испарения в среде высокого вакуума. Вот основные цели и области применения установки для нанесения покрытий методом термического испарения в высоком вакууме:
Нанесение тонкой пленки: Основная цель установки для нанесения покрытий методом термического испарения в высоком вакууме — нанесение на подложки тонких пленок различных материалов, таких как металлы, полупроводники и диэлектрики. Процесс включает нагревание материала в высоком вакууме до тех пор, пока он не испарится, а затем не конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку.
Микроэлектроника и производство полупроводников: Термическое испарение используется в полупроводниковой промышленности для нанесения металлических контактов, адгезионных слоев и других проводящих пленок на полупроводниковые пластины. Это ключевой метод изготовления микроэлектронных устройств, таких как транзисторы, диоды и интегральные схемы.
Оптические покрытия: Устройство для нанесения покрытий широко используется для нанесения оптических покрытий, в том числе просветляющих покрытий, светоделителей и зеркал, на линзы, стекло и другие оптические компоненты. Среда высокого вакуума обеспечивает однородность, чистоту покрытий и желаемые оптические свойства.
Металлические и диэлектрические покрытия: Термическое испарение в высоком вакууме используется для нанесения как металлических пленок (таких как золото, серебро, алюминий), так и диэлектрических пленок (таких как диоксид кремния, диоксид титана) для различных применений, включая отражающие покрытия, конденсаторы и изолирующие слои.
Декоративные покрытия: Устройство для нанесения покрытия также используется в декоративных целях, когда тонкие металлические пленки наносятся на потребительские товары, такие как часы, ювелирные изделия и корпуса электроники, чтобы придать им металлический блеск или эстетическую привлекательность.
Исследования и разработки: В исследовательских лабораториях термическое испарение является распространенным методом подготовки тонких пленок для исследований в области материаловедения, физики и нанотехнологий. Возможность контролировать толщину и однородность пленки делает ее ценным инструментом для экспериментальных исследований и прототипирования.
Изготовление органических и неорганических устройств: Термическое испарение используется при производстве органических светодиодов (OLED), тонкопленочных транзисторов (TFT) и другой органической электроники. Этот метод также используется при производстве неорганических тонкопленочных устройств, таких как солнечные элементы и датчики.
Применение нанотехнологий: В нанотехнологиях термическое испарение используется для нанесения тонких пленок для изготовления наноструктур и наноразмерных устройств. Среда высокого вакуума гарантирует чистоту и точность осаждения, что имеет решающее значение для наноразмерных приложений.
Барьерные и защитные покрытия: Устройство для нанесения покрытий можно использовать для нанесения защитных и барьерных покрытий на различные основания для повышения их долговечности, коррозионной стойкости и других свойств поверхности. Эти покрытия используются в различных отраслях промышленности: от упаковки до аэрокосмической промышленности.
В целом, установка для нанесения покрытий методом термического испарения в высоком вакууме — это универсальный инструмент, который играет решающую роль в различных отраслях промышленности и областях исследований. Его ценят за его способность наносить однородные тонкие пленки высокой чистоты с точным контролем толщины, что делает его незаменимым для применения в микроэлектронике, оптике, материаловедении и других сферах.
Представляем наш современный инструмент для нанесения покрытий методом термического испарения, разработанный для удовлетворения разнообразных потребностей в нанесении тонких пленок в различных отраслях промышленности. Этот ультрасовременный инструмент оснащен передовой технологией, позволяющей создавать высококачественные покрытия для широкого спектра применений.
Наш инструмент для нанесения покрытий методом термического испарения способен наносить различные покрытия, включая оптические покрытия, металлические и диэлектрические покрытия, декоративные покрытия, барьерные покрытия и защитные покрытия. Если вам нужна тонкая пленка для оптических целей или защитное покрытие для промышленного применения, наш прибор может обеспечить исключительные результаты.
Одной из ключевых особенностей нашего инструмента для нанесения покрытий методом термического испарения является возможность термического испарения в высоком вакууме. Эта технология позволяет точно контролировать процесс нанесения, каждый раз обеспечивая равномерное и стабильное покрытие. С помощью этого инструмента вы легко сможете добиться желаемой толщины и состава покрытия.
В дополнение к своим расширенным возможностям, наш инструмент для нанесения покрытий методом термического испарения отличается простотой использования и надежностью. Удобный интерфейс и интуитивно понятное управление упрощают эксплуатацию, а прочная конструкция обеспечивает длительную работу.
Доверьтесь нашему прибору для нанесения покрытий методом термического испарения, который точно и эффективно удовлетворит ваши потребности в нанесении тонких пленок. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать больше о том, как этот инструмент может принести пользу вашему бизнесу.
Технические параметры прибора для нанесения покрытия методом термического испарения в высоком вакууме:
Название продукта | Тепловая система с двойным источником высокого вакуума испарительное покрытие | |
Модель продукта | TN-EVV195-II-HH-SS | |
Образец этапа | Позиция | Верхняя настройка |
Dimensions | Диаметр φ65 мм | |
Скорость | 0-20 об/мин | |
Подача | Регулируемое расстояние между держателем образца и источник испарения | |
Регулируемая температура | ℃500℃ | |
Источник термического испарения | Корзина из вольфрамовой проволоки × 2, вольфрамовая лодочка × 2 | |
Источник питания испарения | Каждый источник испарения оснащен независимый источник питания; два источника испарения могут быть испарены в в то же время | |
Вакуумная камера | Размер полости | диаметрφ195мм×В210мм |
Окно наблюдения | диаметрφ100 мм | |
Материал полости | 304 Нержавеющая сталь | |
Способ открытия | Открыть крышку | |
Измерение толщины пленки | Измерение толщины кристаллической пленки прибор (контроллер толщины пленки также является опцией) | |
Вакуумная система | Форвакуумный насос | Биполярный пластинчато-роторный насос, перекачка газа скорость 1,1 л/с |
Вторичный насос | Турбомолекулярный насос, скорость откачки газа 600л/с | |
Измерение вакуума | Составной вакуумметр (ионизационный манометр + датчик сопротивления) | |
Система вакуумная | 5×10-4Па | |
Система управления | CYKYСамостоятельная разработка профессионального уровня контроллер | |
Другие параметры | Источник питания | 380 В переменного тока, 50 Гц |
Полный размер | 600мм×650мм×1500мм | |
Полная мощность | 7кВт | |
Полный вес | 260 кг | |
Устройство для нанесения покрытий методом термического испарения в высоком вакууме — это оборудование, используемое для нанесения тонких пленок на подложки посредством процесса термического испарения в среде высокого вакуума. Вот основные цели и области применения установки для нанесения покрытий методом термического испарения в высоком вакууме:
Нанесение тонкой пленки: Основная цель установки для нанесения покрытий методом термического испарения в высоком вакууме — нанесение на подложки тонких пленок различных материалов, таких как металлы, полупроводники и диэлектрики. Процесс включает нагревание материала в высоком вакууме до тех пор, пока он не испарится, а затем не конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку.
Микроэлектроника и производство полупроводников: Термическое испарение используется в полупроводниковой промышленности для нанесения металлических контактов, адгезионных слоев и других проводящих пленок на полупроводниковые пластины. Это ключевой метод изготовления микроэлектронных устройств, таких как транзисторы, диоды и интегральные схемы.
Оптические покрытия: Устройство для нанесения покрытий широко используется для нанесения оптических покрытий, в том числе просветляющих покрытий, светоделителей и зеркал, на линзы, стекло и другие оптические компоненты. Среда высокого вакуума обеспечивает однородность, чистоту покрытий и желаемые оптические свойства.
Металлические и диэлектрические покрытия: Термическое испарение в высоком вакууме используется для нанесения как металлических пленок (таких как золото, серебро, алюминий), так и диэлектрических пленок (таких как диоксид кремния, диоксид титана) для различных применений, включая отражающие покрытия, конденсаторы и изолирующие слои.
Декоративные покрытия: Устройство для нанесения покрытия также используется в декоративных целях, когда тонкие металлические пленки наносятся на потребительские товары, такие как часы, ювелирные изделия и корпуса электроники, чтобы придать им металлический блеск или эстетическую привлекательность.
Исследования и разработки: В исследовательских лабораториях термическое испарение является распространенным методом подготовки тонких пленок для исследований в области материаловедения, физики и нанотехнологий. Возможность контролировать толщину и однородность пленки делает ее ценным инструментом для экспериментальных исследований и прототипирования.
Изготовление органических и неорганических устройств: Термическое испарение используется при производстве органических светодиодов (OLED), тонкопленочных транзисторов (TFT) и другой органической электроники. Этот метод также используется при производстве неорганических тонкопленочных устройств, таких как солнечные элементы и датчики.
Применение нанотехнологий: В нанотехнологиях термическое испарение используется для нанесения тонких пленок для изготовления наноструктур и наноразмерных устройств. Среда высокого вакуума гарантирует чистоту и точность осаждения, что имеет решающее значение для наноразмерных приложений.
Барьерные и защитные покрытия: Устройство для нанесения покрытий можно использовать для нанесения защитных и барьерных покрытий на различные основания для повышения их долговечности, коррозионной стойкости и других свойств поверхности. Эти покрытия используются в различных отраслях промышленности: от упаковки до аэрокосмической промышленности.
В целом, установка для нанесения покрытий методом термического испарения в высоком вакууме — это универсальный инструмент, который играет решающую роль в различных отраслях промышленности и областях исследований. Его ценят за его способность наносить однородные тонкие пленки высокой чистоты с точным контролем толщины, что делает его незаменимым для применения в микроэлектронике, оптике, материаловедении и других сферах.
