Вы здесь: Дом / Продукты / Вакуумные компоненты / Источник питания / Источник питания для магнетронного распыления постоянного тока серии MSD

Источник питания для магнетронного распыления постоянного тока серии MSD

Источник питания для магнетронного распыления C является распространенной технологией изготовления тонких пленок.Области его применения включают, помимо прочего: производство тонкопленочных материалов из металлических соединений, оптическую область, производство электронных компонентов.
штат:
Количество:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Источник питания для магнетронного распыления постоянного тока серии MSD

Основные особенности:

1. Он использует передовую технологию импульсного источника питания для уменьшения количества компонентов хранения выходной энергии.В то же время это улучшает подавление искрения и скорость перезапуска, а преимущество покрытия алюминиевой мишени становится более очевидным.

2. Доступен в режиме постоянного тока/постоянной мощности.Режим постоянной мощности гарантирует повторяемость процесса нанесения покрытия по сравнению с обычным режимом постоянного тока.

3. Он имеет идеальную характеристику крутого падения напряжения, автоматически распознает явление псевдовоспламенения и полностью обеспечивает непрерывность процесса магнетронного распыления.

4. Основные параметры можно регулировать в широком диапазоне.

5. Дополнительное ручное управление/управление аналоговым интерфейсом, дополнительный интерфейс связи RS485.

6. Он использует импортный модуль IGBT и MOS высокой мощности, использует передовую технологию широтно-импульсной модуляции PWM и использует импортный IGBT или MOSFET в качестве устройства переключения мощности.Он небольшой по размеру, легкий по весу, полнофункциональный, стабильный и надежный в работе, а производственный процесс строгий и совершенный.

В этой серии продуктов используется усовершенствованная система управления DSP, которая полностью обеспечивает повторяемость процесса нанесения покрытия, а также функция ограничения дугового разряда и сопротивления короткому замыканию.

Эта серия продуктов обладает превосходной способностью согласования нагрузки, что не только обеспечивает стабильность процесса очистки целевой поверхности, но и повышает скорость очистки целевой поверхности;

Основные параметры можно плавно регулировать в широком диапазоне;

Простота обслуживания и высокая надежность;

Интерфейс ПЛК и функция расширения интерфейса RS485 позволяют легко добиться автоматического управления.

Источник питания для магнетронного распыления постоянного тока является распространенной технологией изготовления тонких пленок.Области его применения включают, помимо прочего:


Производство тонкопленочных материалов из металлических соединений. Технология магнетронного распыления постоянного тока может использоваться для производства различных тонкопленочных материалов из металлических соединений, которые можно использовать для изготовления различных металлических деталей, форм и электронных компонентов.Например, он может производить металлические проволоки, электроды, металлические пленки, нанопровода и магнитоэлектрические устройства.Эти материалы широко используются в промышленности, электронике и биомедицине.

Оптическая область: Технология магнетронного распыления постоянного тока может использоваться для производства различных оптических пленок, таких как просветляющие покрытия, отражающие пленки, фильтры и т. д. Эти пленки широко используются в оптических приборах, освещении, фотографии и других областях.

Производство солнечных панелей: технология магнетронного распыления постоянного тока может использоваться для производства солнечных панелей, которые могут преобразовывать световую энергию в электрическую при освещении солнечным светом.

Области декора и строительства. Технология магнетронного напыления постоянного тока может использоваться для производства различных декоративных пленок, таких как стекло с покрытием, пластиковые пленки и т. д. Эти материалы можно использовать для наружной и внутренней отделки зданий.

Производство электронных компонентов. Технология магнетронного распыления постоянного тока может использоваться для производства различных электронных компонентов, таких как резисторы, конденсаторы, катушки индуктивности и т. д. Эти компоненты играют важную роль в электронном оборудовании.



Технические параметры:

Модель

Власть   (кВт)

Макс   рабочий ток (А)

Dimensions

Охлаждение   метод

Нет загрузки   напряжение (В)

Работающий   напряжение (В)

МСД-10к

10

12.5

1   единица

Воздушное охлаждение

480*243*565

(ШВД) (3U)

1000

150~800В

МСД-20к

20

25

1   единица

МСД-30к

30

37.5

2   единицы

МСД-40к

40

50

2   единицы

МСД-20к

20

25

1   единица

Воздушное охлаждение и водяное   охлаждение

480*280*580

(ШГД)(3U)

1000

150~800В

МСД-30к

30

37.5

1   единица

МСД-40к

40

50

1   единица

МСД-60к

60

75

2   единицы

МСД-80к

80

100

2   единицы

МСД-100к

100

125

3   единицы

МСД-120к

120

150

3   единицы


на: 
под: 
ЗАПРОС О ПРОДУКТЕ

СОПУТСТВУЮЩИЕ ТОВАРЫ

Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Компания-производитель, специализирующаяся на производстве лабораторных научных приборов.Наша продукция широко используется в колледжах, исследовательских институтах и ​​лабораториях.

БЫСТРЫЕ ССЫЛКИ

СВЯЗАТЬСЯ С НАМИ

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Комната 401, 4-й этаж, корпус 5, Новый город технологий Чжэнчжоу Ида, улица Цзиньчжан, зона высоких технологий, город Чжэнчжоу
Авторское право © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Поддержка leadong.com