| Количество: | |
|---|---|
TN-PLZ180-II-DC-Q
TN
Установка плазменного напыления — это современное оборудование, необходимое для нанесения тонких пленок металлов, сплавов, оксидов, нитридов и других материалов на различные подложки. Эта передовая технология широко используется в таких отраслях, как производство полупроводников, оптика и электроника.
В этом устройстве для нанесения покрытия используется процесс плазменного напыления, который включает бомбардировку целевого материала ионами высокой энергии для высвобождения атомов, которые затем осаждаются на подложку. В результате получается однородное и высококачественное тонкопленочное покрытие, необходимое для различных применений.
Установка для плазменного напыления очень универсальна и может использоваться с широким спектром материалов и подложек, включая кремниевые пластины, стекло и керамику. Он обеспечивает точный контроль над процессом осаждения, позволяя настраивать толщину, состав и структуру пленки.
Благодаря своим расширенным функциям и возможностям установка для плазменного напыления является ценным инструментом для исследователей, инженеров и производителей, стремящихся создавать высокоэффективные тонкопленочные покрытия для различных применений. Его надежность, эффективность и точность делают его незаменимым активом в области материаловедения и технологий.
Элемент | Деталь |
Модель продукта | TN-PLZ180-II-DC-Q |
Образец этапа | Диаметр φ60 мм, может автоматически переключаться между двумя целевыми положениями. |
Распылительная головка постоянного тока | 2'х1 |
Материал камеры | Кварц высокой чистоты |
Размер камеры | φ180 мм х 150 мм |
Вакуумный насос | Роторно-лопастной насос |
Предельный вакуум | 1,0Э-1Па |
Вакуумный интерфейс | КФ16 вакуумный фланец |
Вход газа | Соединитель с наконечником φ 6,35 |
Источник питания | 220 В переменного тока, 50 Гц |
Общая мощность | 1,5 кВт/2 кВт (вращающийся нагрев) |
Установка плазменного напыления — это современное оборудование, необходимое для нанесения тонких пленок металлов, сплавов, оксидов, нитридов и других материалов на различные подложки. Эта передовая технология широко используется в таких отраслях, как производство полупроводников, оптика и электроника.
В этом устройстве для нанесения покрытия используется процесс плазменного напыления, который включает бомбардировку целевого материала ионами высокой энергии для высвобождения атомов, которые затем осаждаются на подложку. В результате получается однородное и высококачественное тонкопленочное покрытие, необходимое для различных применений.
Установка для плазменного напыления очень универсальна и может использоваться с широким спектром материалов и подложек, включая кремниевые пластины, стекло и керамику. Он обеспечивает точный контроль над процессом осаждения, позволяя настраивать толщину, состав и структуру пленки.
Благодаря своим расширенным функциям и возможностям установка для плазменного напыления является ценным инструментом для исследователей, инженеров и производителей, стремящихся создавать высокоэффективные тонкопленочные покрытия для различных применений. Его надежность, эффективность и точность делают его незаменимым активом в области материаловедения и технологий.
Элемент | Деталь |
Модель продукта | TN-PLZ180-II-DC-Q |
Образец этапа | Диаметр φ60 мм, может автоматически переключаться между двумя целевыми положениями. |
Распылительная головка постоянного тока | 2'х1 |
Материал камеры | Кварц высокой чистоты |
Размер камеры | φ180 мм х 150 мм |
Вакуумный насос | Роторно-лопастной насос |
Предельный вакуум | 1,0Э-1Па |
Вакуумный интерфейс | КФ16 вакуумный фланец |
Вход газа | Соединитель с наконечником φ 6,35 |
Источник питания | 220 В переменного тока, 50 Гц |
Общая мощность | 1,5 кВт/2 кВт (вращающийся нагрев) |
